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德國徠卡 鍍膜儀 EM ACE600

德國徠卡 鍍膜儀 EM ACE600

簡要描述(shu):使(shi)用德國徠卡 鍍(du)膜儀 EM ACE600,充滿信心(xin)地制備用于電鏡分析的(de)細粒度薄膜。 精確(que)的(de)自(zi)動化碳鍍(du)膜和濺射鍍(du)膜工(gong)藝可產生值(zhi)得信賴的(de)可重現結果,提高每(mei)次運(yun)行的(de)樣本產出。

  • 產品(pin)型號:
  • 廠商性質(zhi):生產廠家
  • 更新時間(jian):2024-02-22
  • 訪  問(wen)  量:5054

詳細介紹

品牌Leica/徠卡價格區間80萬-100萬
產地類別進口應用領域醫療衛生,生物產業

德國徠卡 鍍膜儀 EM ACE600

使用德國徠卡 鍍膜儀 EM ACE600,充滿信心地制備用于電鏡分析的細粒度薄膜。 精確的自動化碳鍍膜和濺射鍍膜工藝可產生值得信賴的可重現結果,提高每次運行的樣本產出。

僅(jin)供研究使用


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適(shi)合廣泛應(ying)用領域的高真空(kong)鍍膜系統

EM ACE600 濺(jian)射(she)鍍膜機裝(zhuang)有可(ke)配置式金屬處理室(shi),十分靈活,適合廣泛的(de)(de)應用(yong)領域。 實現工(gong)作流程目標,滿足實驗室(shi)需求——可(ke)在同一個(ge)制備過(guo)程中運(yun)行兩個(ge)不同的(de)(de)濺(jian)射(she)源(yuan),還可(ke)配置 EM ACE600 用(yong)于高級(ji)冷凍工(gong)作流程。

通過方便的前門裝載方法(fa)、僅需(xu)按下(xia)一個按鈕(niu)即可(ke)(ke)啟動(dong)的收料(liao)即鍍(du)式自動(dong)化(hua)鍍(du)膜過程(cheng),EM ACE600 可(ke)(ke)以讓您簡單可(ke)(ke)靠地制備(bei)常規(gui)樣本并節省寶貴的時間。

無論(lun)您需要……

對(dui)扁(bian)平或結構化的非導電樣本(ben)進(jin)行(xing)高分辨率成像(xiang)

增(zeng)強納(na)米級結(jie)構(如蛋白(bai)質或 DNA 鏈)的對比度

生成透射(she)電鏡 (TEM) 載(zai)網(wang)的薄而堅固的支撐(cheng)層(ceng),或者

為敏感樣本提供(gong)保(bao)護層

擴展冷凍應用中的系統

……>使用 EM ACE600 碳 鍍膜和濺射(she)鍍膜機,皆(jie)可實現。

適合廣泛應用領域的高真空鍍膜系統 

帶(dai)冷凍(dong)傳輸裝置的(de) EM ACE600 碳、電子束和濺射鍍膜機

濺射涂層碳涂層

通過濺(jian)射鍍膜(mo)獲得可(ke)重現(xian)的(de)高品(pin)質薄膜(mo)

使用 EM ACE600 高(gao)真空鍍(du)膜(mo)系統,每次運行均可始(shi)終一致地生(sheng)成高(gao)品質的(de)濺(jian)射(she)鍍(du)膜(mo)薄膜(mo)。 使用收料即鍍(du)的(de)自動化濺(jian)射(she)鍍(du)膜(mo)工藝,滿足先進鍍(du)膜(mo)所需的(de)適當條件并(bing)實(shi)現可重(zhong)現的(de)結果。

可(ke)進(jin)行高達 200kX 的(de)高放大倍率掃描電鏡 (SEM) 分析(xi),具有(you)出色的(de)基(ji)礎真空度(du)(du)(<2x10-6 mbar),可(ke)為各種不同的(de)濺射靶材仔細均衡調整(zheng)工藝參數。 根據樣(yang)本形態的(de)需要調整(zheng)樣(yang)本距離和鍍膜角(jiao)度(du)(du)。

為進(jin)一(yi)步加(jia)強鍍(du)膜效果,可以使(shi)用 Meissner 捕集(ji)器將真空度提高到 10-7 mbar,之(zhi)后再嘗試對氧敏感的濺射靶材(cai)或樣本材(cai)料。

濺射鍍膜 

不同材料(liao)的(de)2納米厚的(de)細粒(li)度濺射鍍膜,沉積在 SiOx 基(ji)材上,200kX 放大倍率。

超薄碳膜

碳鍍膜在電鏡(jing)領域的(de)應(ying)用十分廣泛(fan)。 它需要具(ju)(ju)有導電性,但對電子(zi)束透明,并且不能具(ju)(ju)有顆粒結構(gou)。

采用(yong)自(zi)適應(ying)脈沖方法的 EM ACE600 碳(tan)絲(si)所生成的薄膜,厚度精確、堅固并具有導(dao)電性,還可以通過烘焙法進一步減少污(wu)染。 最終,這類薄膜提供:

對(dui)電子的高透明度

足(zu)以(yi)承受電子轟擊(ji)的(de)強(qiang)度

均勻的厚度,這對于分析(xi)研(yan)究、定量(liang)成像或電(dian)子斷層掃描至關(guan)重要

超薄碳膜 

A:常(chang)規碳膜(mo)(15納米(mi)(mi)碳);B:超薄碳膜(mo)(3納米(mi)(mi))。 輕松觀察硒(xi)化鎘(ge) (CdSe) 量子片的晶格。 圖片由比利時 Eva Bladt 和(he) Sara Bals(EMAT,安特(te)衛普大(da)學)采集。 提供(gong)方: Frederic Leroux 和(he) Jan de Weert。 樣(yang)本提供(gong)方: Daniel Vanmaekelbergh,烏特(te)勒(le)支大(da)學納米(mi)(mi)材料(liao)科學研究所(suo)(Debye Institute for Nanomaterials Science, University of Utrecht)

按需配置(zhi) EM ACE600

通(tong)過 EM ACE600 的(de)大型(xing)可配置金屬處理室,可在不破壞真(zhen)空(kong)的(de)情況下(xia)用一(yi)臺(tai)鍍膜(mo)機(ji)運行多個制(zhi)程。 同時,將濺射(she)頭(tou)與先進(jin)的(de)碳(tan)絲蒸發器結合(he)使用或者選用兩(liang)個濺射(she)源,可在一(yi)次制(zhi)備過程中完成多層金屬鍍膜(mo)。

采(cai)用經過優化的(de)帶兩個斜角端口和一個旋轉臺(tai)的(de)雙源方法,可(ke)在整(zheng)個100毫米樣本臺(tai)上生成均勻分布的(de)薄(bo)膜(mo)

有穩定(ding)的碳絲、電子束和(he)濺(jian)射鍍(du)膜機(ji)濺(jian)射源可供選擇

為您(nin)的 EM ACE600 裝(zhuang)配(pei)輝光放電濺射功能

可(ke)隨時在現場升級(ji)

按需配置 EM ACE600 

適用于雙(shuang)源的 ACE600 可配(pei)置(zhi)(zhi)端口(kou)。 有(you)以(yi)下配(pei)置(zhi)(zhi)可供選擇(ze): 1- 碳(tan)絲蒸(zheng)發(fa) | 2- 濺射 | 3- 碳(tan)棒蒸(zheng)發(fa) | 4- 電子(zi)束(shu)蒸(zheng)發(fa)

專注于制(zhi)備過程(cheng)的(de)關(guan)鍵(jian)部分(fen)

使(shi)用 EM ACE600 碳鍍膜和濺(jian)射鍍膜機,只(zhi)需按下一個按鈕(niu)即(ji)可(ke)(ke)讓(rang)您充滿(man)信(xin)心地完成常規樣本(ben)制(zhi)備(bei)。 簡單可(ke)(ke)靠的(de)工作流(liu)(liu)程(cheng)和便(bian)捷的(de)標準操(cao)作程(cheng)序讓(rang)您能夠(gou)專注于電(dian)鏡樣本(ben)制(zhi)備(bei)的(de)關鍵部分(fen)。 您可(ke)(ke)以專注于優化工作流(liu)(liu)程(cheng),減(jian)少自己學習操(cao)作方(fang)法或培訓他人使(shi)用方(fang)法的(de)時間。

通過前門安全裝卸敏感樣(yang)本

基于工作流程的用(yong)戶界面,可快速訪(fang)問相關參數,全(quan)程引導式操作

輕量、穩定的濺射源,方(fang)便日常操作(zuo)

專注于制備過程的關鍵部分 

EM ACE600 觸摸屏(ping),通過基(ji)于工作流(liu)程的(de)用戶界面操作

 

擴(kuo)展至冷凍工作(zuo)流程

在冷凍(dong)(dong)條件下為樣(yang)本鍍(du)膜,提(ti)升實驗(yan)(yan)室(shi)電(dian)鏡(jing)(jing)實驗(yan)(yan)能力。 將樣(yang)本冷凍(dong)(dong)斷(duan)裂和冷凍(dong)(dong)鍍(du)膜后,通過 EM VCT500 傳輸系統將冷凍(dong)(dong)樣(yang)本傳輸至(zhi)掃描電(dian)鏡(jing)(jing),EM ACE600 碳鍍(du)膜和濺射鍍(du)膜機可幫助制備樣(yang)本用于研究(jiu),如在生物樣(yang)本原生和水合狀態下的(de)結構分析。

EM ACE600 提供:

用于傳輸冷(leng)凍樣本的接口(kou)

用于低溫冷凍條件下鍍膜的(de)冷凍臺(tai)

基(ji)本型斷(duan)裂裝置

選擇優化(hua)配置(zhi)

配置(zhi) EM ACE600 碳鍍(du)膜(mo)和濺(jian)射鍍(du)膜(mo)機,滿足實驗室日(ri)常工作需求。

有各種樣本支架和(he)樣本臺可(ke)供選擇,例如帶(dai)有多(duo)達 3 個(ge)電(dian)動軸的 3 軸樣本臺或專用(yong)冷卻臺。 可(ke)快(kuai)速(su)更換的樣本臺基(ji)片使 EM ACE600 成為多(duo)功(gong)能工(gong)具。

選擇優化配置 

1:電動 3 軸樣本(ben)臺 | 2:旋轉投影(LARS)樣本(ben)臺 | 3:旋轉“手動"樣本(ben)臺 | 4:冷凍臺

旋轉投影—使納米級結構清晰(xi)可見

以(yi)專(zhuan)用小(xiao)(xiao)角(jiao)度(du)旋轉投(tou)影(LARS)設(she)置(zhi)配置(zhi) EM ACE600,可在透射(she)電(dian)(dian)鏡中對納(na)米(mi)級結(jie)(jie)構(gou)(如蛋白(bai)質(zhi)或 DNA 鏈(lian))成像(xiang)。 EM ACE600 電(dian)(dian)子(zi)束源與(yu)電(dian)(dian)動 LARS 樣本(ben)(ben)臺將指令(ling)、低熱(re)損傷影響、薄膜(mo)沉積與(yu)優化的樣本(ben)(ben)臺幾何(he)結(jie)(jie)構(gou)相結(jie)(jie)合,可實現掠角(jiao)入射(she)沉積。 用細粒度(du)鉑層以(yi)小(xiao)(xiao)角(jiao)度(du)對 DNA 鏈(lian)進行投(tou)影鍍膜(mo),然后添加(jia)碳層穩定脆性(xing)結(jie)(jie)構(gou),以(yi)便在 TEM 中進行分析。

旋轉投影—使納米級結構清晰可見 

出芽酵母(S.cerevisiae,釀酒酵母)的 DNA 復制分(fen)叉的 TEM 圖片,使(shi)用(yong) EM ACE600 電子束鍍(du)膜機通(tong)過小角(jiao)度旋轉投影方法獲得(de)

為實驗選(xuan)擇合適的工作(zuo)流程


EM ACE600 有助于您在進行材料(liao)科學和生物(wu)學實驗時獲得高質量(liang)的結果。

工(gong)(gong)作流(liu)(liu)程包括標準透射(she)電(dian)鏡(jing)和掃(sao)描(miao)電(dian)鏡(jing)樣本制備、切片斷(duan)層掃(sao)描(miao) 3D 工(gong)(gong)作流(liu)(liu)程、聚焦離子束掃(sao)描(miao)電(dian)鏡(jing) (FIB SEM) 等。 如需詳細了解(jie)以下領域的工(gong)(gong)作流(liu)(liu)程解(jie)決方案:

生命(ming)科學研究(jiu),請下載工(gong)作流程手冊

材料科學研究(jiu),請下載(zai)工作流程手冊(ce)

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